光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家
瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ，非常智能地聯(lián)合了原子力顯微鏡的核心部件來(lái)實(shí)現(xiàn)最多功能化與用戶方便使用性. 正是由于這種基礎(chǔ)的設(shè)計(jì), coreafm非常合理的實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)化的原子力顯微鏡的功能.
更新時(shí)間:2025-06-26
韓國(guó)ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)hms3000，hms5000，用于研究半導(dǎo)體材料/光電材料的電學(xué)特性，可以測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。
更新時(shí)間:2025-06-26
美國(guó) mmr 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) h5000，用于研究光電材料的電學(xué)特性，利用范德堡測(cè)量技術(shù)測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。整套系統(tǒng)主要包括控制器、樣品室、磁場(chǎng)三部分。
更新時(shí)間:2025-06-26
半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)kup007，emp100c，emp100b，emp50s
更新時(shí)間:2025-06-26
德國(guó)mecwins 掃描式激光分析儀scala，它是用激光入射掃描樣品表面，收集反射信號(hào)得到樣品表面的三維形貌和特征。
更新時(shí)間:2025-06-26
美國(guó)nanovea三維表面形貌儀hs1000型，是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國(guó)際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。
更新時(shí)間:2025-06-26
德國(guó) yxlon 高分辨率ｘ射線檢測(cè)設(shè)備 y.cougar smt 平板探測(cè)器（標(biāo)配） y.cheetah 高速平板探測(cè)器（標(biāo)配）
更新時(shí)間:2025-06-26
美國(guó)royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-06-26
美國(guó)royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.
更新時(shí)間:2025-06-26
美國(guó)rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個(gè)性價(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel，提供4種型號(hào)可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣，mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專用夾具連接的接口。
更新時(shí)間:2025-06-26
德國(guó)klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x3d nanofinger，是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合，進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。
更新時(shí)間:2025-06-26
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2025-06-26
美國(guó)filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-06-26
美國(guó) sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無(wú)需人員重復(fù)設(shè)置.
更新時(shí)間:2025-06-26
德國(guó)bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2025-06-26
德國(guó)bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥，食品，農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無(wú)破壞性，不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時(shí)間:2025-06-26
德bruker光學(xué)輪廓儀contorugt-表面量測(cè)系統(tǒng)-供生產(chǎn)qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學(xué)輪廓儀
更新時(shí)間:2025-06-26
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開(kāi)發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-06-26
美國(guó)ogp光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x zip 250 ，5:1 accucentric 電動(dòng)變焦透鏡，在每次放大變倍時(shí)自動(dòng)校準(zhǔn)，可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時(shí)間:2025-06-26
jy—pha接觸角測(cè)定儀，用于液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性，通過(guò)測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角、計(jì)算、測(cè)定液體對(duì)固體的附著力，張力及固體表面能等指標(biāo)。
更新時(shí)間:2025-06-26
布魯克bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 contour x, 滿足微納米表面測(cè)量需要
更新時(shí)間:2025-06-26
布魯克bruker contourx-200 三維光學(xué)輪廓儀，靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備
更新時(shí)間:2025-06-26
布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）設(shè)計(jì)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率，垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）的技術(shù)突破，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量，從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件，半導(dǎo)體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41b，可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.1um 的顆粒。
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2025-06-26
lfa 467 hyperflash 閃射法導(dǎo)熱儀，自由選擇測(cè)試氣氛，優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)置與閃射光源，16位自動(dòng)進(jìn)樣器，高的測(cè)量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統(tǒng)，設(shè)計(jì)獨(dú)特，性能優(yōu)異，配備氙燈光源的，高溫測(cè)試系統(tǒng)，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內(nèi)置微型管式爐，更高的測(cè)量效率，高數(shù)據(jù)采集速率- 用于薄膜與高導(dǎo)熱材料的解決方案
更新時(shí)間:2025-06-26
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時(shí)間:2025-06-26
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無(wú)損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-06-26
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無(wú)損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-06-26
美az 總輻射度/太陽(yáng)能吸收率(tesa)便攜式反射計(jì) tesa 2000，根據(jù)astm e408測(cè)定熱發(fā)射率和空氣質(zhì)量為零時(shí)的太陽(yáng)吸收率(空間應(yīng)用)。它緊湊，輕巧，堅(jiān)固耐用，符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，便于在野外或?qū)嶒?yàn)室中使用。
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個(gè)通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數(shù)濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）
更新時(shí)間:2025-06-26
日本理音rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f，寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。可測(cè) 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-18f ( 光散射法）液體光學(xué)顆粒度儀 ks-18f寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。 可偵測(cè)到小粒徑 0.05um 的粒子
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法）,可測(cè)試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-06-26
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-06-26
日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f，檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道
更新時(shí)間:2025-06-26
一鍵閃測(cè)儀ivs系列國(guó)產(chǎn)閃測(cè)儀閃測(cè)儀廣泛應(yīng)用于機(jī)械、電子、模具、注塑、五金、橡膠、低壓電器、磁性材料、精密沖壓、接插件、連接器、端子、手機(jī)、家電、印刷電路板、醫(yī)療器械、鐘表、刀具等。
更新時(shí)間:2025-06-26
fr-mini 是一款緊湊型裝置，專為大學(xué)教育和研究實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)，用于快速、準(zhǔn)確和無(wú)損地表征各種不同的涂層。使用 fr-mini，用戶還可以在較寬的光譜范圍內(nèi)輕松進(jìn)行反射率和/或透射率測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-06-26
fr-pro 膜厚測(cè)量?jī)x 用于表征1nm-3mm厚度范圍內(nèi)的 涂層的模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)。
更新時(shí)間:2025-06-26
fr-scanner 是一款緊湊的臺(tái)式測(cè)量工具，全自動(dòng)測(cè)繪涂層的厚度，基底適用于晶圓，掩膜版及其它材料。fr-scanner 可以快速和準(zhǔn)確地測(cè)量薄膜特性，比如厚度，折射系數(shù)，均勻性，色度等，真空吸盤可應(yīng)用于任何直徑或其它形狀的樣品。
更新時(shí)間:2025-06-26
該設(shè)備延續(xù)原系列計(jì)量級(jí)精度和強(qiáng)大細(xì)節(jié)還原能力；集成兩組高分辨率掃描模組，可實(shí)現(xiàn)兩個(gè)不同掃描范圍的一鍵切換，無(wú)需手動(dòng)更換鏡頭及調(diào)焦。且設(shè)計(jì)單雙目模式，提升凹槽等位置的數(shù)據(jù)獲取能力；提升掃描速度，進(jìn)一步加快工業(yè)精密3d測(cè)量的工作效率。適用于汽車工業(yè)、民用航空、電子電器、醫(yī)療、文物保護(hù)等領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-06-26
gfm 便攜式三維光學(xué)缺陷階差測(cè)量?jī)x，精確、快速、便攜應(yīng)用領(lǐng)域：金屬，復(fù)合材料，織物等材質(zhì)表面的劃痕，裂紋，磨損，刮擦、凹坑、鑿擊、腐蝕等表面缺陷的現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)和分析；鉚接，焊接，接縫等階差和凹凸量的三維
更新時(shí)間:2025-06-25
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